Autore:
Titolo:
Ottimizzazione del processo di impianto ionico di alluminio per la realizzazione di giunzioni P+/N in carburo di silicio : tesi di dottorato svolta presso Consiglio nazionale delle ricerche, Istituto per la microelettronica e microsistemi, sezione di Bologna / Fabio Bergamini ; relatore: Agostino Desalvo ; correlatore: Roberta Nipoti ; coordinatore: Carlo Polmonari
Pubblicazione:
2005.
Descrizione fisica:
1 v.
Note:
A. a. 2003-2004
In testa al front.: Università degli studi di Bologna, Facoltà di ingegneria, Dipartimento di chimica applicata e scienza dei materiali, dottorato di ricerca in ingegneria dei materiali, 17. ciclo
Numero BNI:
BN 2006-7837T
Autori secondari:
Classe Dewey:
Classe MIUR:
ING-IND/22 - Scienza e tecnologia dei materiali
Tesi di dottorato. | Lingua: Italiano. | Paese: IT. | BID: BNI0018057
Biblioteca | Inventario | Collocazione | Fruizione | status | |
---|---|---|---|---|---|
Biblioteca Nazionale Centrale - Firenze | TVD980505930 | TDR 2005 05930 | Lettura tesi in sede |
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